今天,Intel公司在其总部宣布,Intel未来的处理器产品,从45nm High-k制程开始,将全面导入无铅工艺。首批无铅处理器将包括45nm的“Penryn”Core 2 Duo、Core 2 Quad和Xeon处理器。Intel预计在今年下半年开始45nm High-k工艺制造。
在半导体的封装过程中,普遍需要用到金属铅,但铅对于环境的影响已经众人皆知。为此,欧盟的RoHS指令要求自2006年7月1日起,进入欧盟市场的电子电气产品禁用包括铅在内的6类有害物质。这也意味着如果不能尽快完成无铅改造,Intel有可能面临欧盟市场禁入的尴尬局面。
Intel自2002年起开始制造首款无铅闪存产品。2004年,Intel采用的新工艺已经将铅用量降低了95%。而为了消除最后的5%,约0.02g,Intel本次在芯片封装焊接中将引入锡银铜合金,代替锡铅合金。除了下半年45nm High-k工艺导入无铅外,明年65nm处理器生产线也将引入100%无铅工艺。
Wednesday, May 23, 2007
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